マスクレス露光装置

マスクレス露光で半導体ウェハ上にパターンを直接描画する装置です。
256階調のグレースケール露光やレジストの三次元加工にも対応。ジャギ解消や露光分布の均一化など、高精細露光を追求した一台です。

マスクレス露光で半導体ウェハ上にパターンを直接描画する装置です。
最大12インチウェハに対応。標準搭載のファイン露光モードを使えばジャギを改善でき、斜線や曲線のデータ再現性が大きく向上します。