半導体･電子部品業界

マスクレス露光で半導体ウェハ上にパターンを直接描画する装置です。
256階調のグレースケール露光やレジストの三次元加工にも対応。ジャギ解消や露光分布の均一化など、高精細露光を追求した一台です。

空気静圧による完全非接触ガイドです。
摺動抵抗が極めて小さく、高速移動が可能。メンテナンスフリーで長く使用でき、高い真直度を維持できるため高精度な走行動作が求められる装置のステージに最適です。

非接触のエアスライドを使用するためダストの発生がなく、メンテナンスフリーで使用いただけるステージです。
ウエハ検査装置や露光装置など、高い位置決め精度や繰り返し精度を必要とする装置に最適です。

高精度フィードバックスケールとピエゾアクチュエータを搭載し、きわめて高い制御分解能と繰返し精度を実現した手のひらサイズの高精度ナノステージです。
レーザー光軸やレンズ調心などの用途に最適です。

小型の筐体とAC100V駆動により、設置場所を選ばないNC加工機です。
広いストロークが特長で、金属や脆性材、セラミックスの加工にも対応。標準フルカバー仕様で乾式・湿式両加工に対応しています。

卓上に設置できる小型筐体が魅力のNC加工機です。
小型には稀有な±3µmの繰り返し精度で、ガラスやシリコンなど脆性材の微細加工に最適。
大学や研究機関のR&D用途に多く活用されているモデルです。